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光阻桶-4L
高纯试剂专用光阻桶
4L光阻桶专为半导体光刻胶等高纯度电子化学品定制,采用轻薄高强度 304 不锈钢一体成型。内壁经酸洗钝化形成致密防护层,最大程度抑制金属离子析出,避免污染精密电子原料;外壁拉丝质感耐磨抗指纹,适配无尘车间洁净管控。桶身一体提手设计便于单人搬运,小口密封结构隔绝光线与空气,完美匹配光刻胶避光、低杂质存储需求,是实验室、芯片厂小批量光阻转运分装的专用容器。
光阻桶-4L
高纯试剂专用光阻桶
4L光阻桶专为半导体光刻胶等高纯度电子化学品定制,采用轻薄高强度 304 不锈钢一体成型。内壁经酸洗钝化形成致密防护层,最大程度抑制金属离子析出,避免污染精密电子原料;外壁拉丝质感耐磨抗指纹,适配无尘车间洁净管控。桶身一体提手设计便于单人搬运,小口密封结构隔绝光线与空气,完美匹配光刻胶避光、低杂质存储需求,是实验室、芯片厂小批量光阻转运分装的专用容器。
※ 产品规格
| 尺寸 | φ177±2mm*H307±2mm |
|---|---|
| 产品编号 | JSD-GT-304-4L-G01 |
| 桶体净重 | 2.3±0.5kg |
| 容积 | 4L |
| 最大可装载质量 | 7.6kg |
| 桶身厚度 | 1.0t |
| 桶口 | φ50.8mm |
| 桶内外壁处理 | 内壁:酸洗钝化处理 |
| 外壁:拉丝处理 |
※ 配件
| 明细 | 规格 | 材质 |
|---|---|---|
| 密封盖尺寸 | φ75.85±0.05mm*H48.5±0.05mm | 6061国标铝 |
| 防尘盖尺寸 | φ70.5±0.05mm*H25.5±0.05mm | 6061国标铝 |
| 表面处理 | 氧化 | |
※ 产品示意图
※ 产品规格
| 尺寸 | φ177±2mm*H307±2mm |
|---|---|
| 产品编号 | JSD-GT-304-4L-G01 |
| 桶体净重 | 2.3±0.5kg |
| 容积 | 4L |
| 最大可装载质量 | 7.6kg |
| 桶身厚度 | 1.0t |
| 桶口 | φ50.8mm |
| 桶内外壁处理 | 内壁:酸洗钝化处理 |
| 外壁:拉丝处理 |
※ 配件
| 明细 | 规格 | 材质 | |
|---|---|---|---|
| 密封盖尺寸 | φ75.85±0.05mm*H48.5±0.05mm | 6061国标铝 | |
| 防尘盖尺寸 | φ70.5±0.05mm*H25.5±0.05mm | 6061国标铝 | |
| 表面处理 | 氧化 | ||